金融界2025年6月24日消息，国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司SMT有限责任公司申请一项名为“用于EUV投射曝光设备的EUV光学模块”的专利，公开号CN120202437A，申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，本发明提供一种用于EUV投射曝光设备（1）的EUV光学模块（35），其具有至少一个光学部件（19、21、23、7、M1至M6、13），该光学部件具有光学表面，用于沿着该投射曝光设备（1）的照明和/或成像射束路径引导来自EUV源（3）的所使用EUV辐射（16）。该光学部件（19、21、23、7、M1至M6、13）收容在减压腔室（36）中。气体源（37）经由至少一个阀而流体连接到该减压腔室（36）。该气体源（37）设计成使得其提供至少下列气体：氢。结果为具有更长操作时间的EUV光学模块。
来源：金融界
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